第四十七章 蒲伟才（1/2）

1月15日，星期六。

合痩市。

乘坐高铁的卫明，来到了这座城市。

为此他特意跟樊姐请了两天假，提前处理了三十多名结石病人，合计腾出了三天时间，就为了解决掉一个问题。

人才！

高端光刻机的研发人才。

而且卫明已经有了明确的招募目标，他认为的最合适最优秀的人才，就在合瘦市这边。

此人名叫蒲伟才。

卫明是在网上查找相关信息的过程中，看到了多条关于此人的新闻。

也注意到此人带领的研发团队，取得的跟光刻机相关的多项研究成果，明白了此人的牛叉之处。

因为这些天卫明也在大力学习一些跟光刻机相关的知识，了解到了euv光刻机的几大核心技术。

一个，组装。

光刻机最重要的技术之一是组装，就是把所有的元件组装起来，然后使分辨率达到最高，同时套刻精度达到最佳。

比如机器内部温度的变化要控制在千分之五度，得有合适的冷却方法，精准的测温传感器。一台光刻机中，包含十几个分系统，几万个机械件，数百个的传感器，每一个都要稳定。

二，控制。

光刻机是制造业内对精密性要求最高的产品。光刻的原理就像在米粒大小的面积上，雕刻纳米级大小的文字，对于误差的要求可想而知。

比如光刻机里有2个同步运动的工件台，一个载底片，一个载胶片。两者需始终同步，误差在2纳米以下。两个工作台由静到动，加速度跟导弹发射差不多。

三，光源。

制造euv需要极高的能量。euv能被空气吸收，所以光刻环节必须耗电保持真空环境。更夸张的是，euv还能被透镜吸收，所以只能用十几次面透镜，通过不断反射将光源集中。

每反射1次，euv的能量就会损失3成。十几次反射后，到达晶圆的光线理论上只剩下2。从能连赶上看，寒国某半导体企业曾经说过，极紫外光euv的能源转换效率只有002左右。

四、镜头。

光刻机的中心镜头对于镜头要求较高，位于光刻机中心的镜头，由20多块锅底大的镜片串联组成，需要高纯度透光以及高抛光。

目前，符合光刻机要求的镜片还无法靠机器制造，先进光刻机镜头全部由手工打磨而成，能够达到这一标准的公司并不多，全世界范围内也就一两家，全部是西方老牌公司。

而这四大类的核心技术中。

卫明了解到这位牛人蒲伟才跟他的技术团队，在短短的十年时间里，一共攻克了两项。

分别是双工台技术与光源技术。

他带领团队研发出的高精密双工台，控制精度也达到了2纳米，跟国外最先进水平，达到了同等先进的程度，抹平了技术差距，可以说是打成了平手。

而在光源技术方面，蒲伟才也是只用了短短几年时间，利用国内在激光技术领域的领先地位，以及材料方面的领先优势，开发出的euv光源系统，最终能源利用率达到了5。

较之于艾思迈euv光刻机的2，能源利用率提升了一倍还多！

这意味着光刻机在使用的过程中，能节省一半多的电，减少产生大量的热量，系统的稳定性能提高不少。

也就是说，在euv光刻机领域，蒲伟才这位牛人，以及他带领的技术团队，四大核心技术中，他们攻破了两个。

剩下的两大核心技术中。

组装技术方面，魔都微电子公司近年已取得了巨大突破，具备了将10万多个零件组合成一台光刻机，并让其长期稳定工作下去的能力。

唯独在镜头这块，国内还无法取得突破，因为艾思迈公司euv光刻机所用